"中, 자체개발 28나노 노광장비 연내 출시"...반도체 굴기 빨라지나

[지디넷코리아]

중국이 자체 개발한 28나노미터(nm) 노광장비를 연내 출시할 예정이라고 중국 관영매체 글로벌타임스 등이 지난 1일(현지시간) 보도했다.

보도에 따르면 중국 반도체 노광장비 업체 'SMEE'는 자국 내 최초로 28나노 이머전 DUV(심자외선) 노광장비인 'SSA/800-10W'를 개발했다. 해당 장비는 연내 출시될 것으로 예상된다.

노광장비는 빛을 이용해 반도체 회로를 그리는 반도체 전공정 분야의 핵심 장비다. 이머전 DUV는 기존 DUV 대비 해상력을 높인 기술로, 28나노~40나노급 공정 구현에 주로 활용된다.

SMEE이 실제로 28나노 이머전 DUV 노광장비 상용화에 성공하는 경우, 중국의 반도체 자생력 강화 전략이 한층 강화될 수 있을 것으로 전망된다.

현재 중국은 미국의 대중(對中) 반도체 수출 규제로 첨단 반도체 투자에 상당한 제약을 받고 있다. 대표적으로 네덜란드 정부는 미국의 요청에 따라 지난 2019년부터 자국 노광장비 업체 ASML의 중국향 EUV(극자외선) 장비 수출을 금지하고 있다.

EUV는 DUV 대비 한층 더 진보된 노광 기술로, 7나노 이하의 최선단 공정 구현에 필수적으로 쓰인다. 전 세계에서 EUV 노광장비를 제조할 수 있는 기업은 현재로선 ASML이 유일하다.

오는 9월부터는 ASML의 최신형 DUV 이머전 노광장비 2종도 중국 수출길이 막힐 예정이다.

이처럼 미국과 주변 동맹국의 압박 수위가 강화되는 가운데, 중국은 이번 SMEE의 장비 개발에 거는 기대가 큰 분위기다.

글로벌타임스는 업계 전문가 및 외신을 인용해 "SMEE의 28나노 노광장비는 업계에 큰 돌파구가 될 것"이라며 "SMEE는 중국 최고의 노광장비 업체 중 하나로 ASML에 대항할 수 있는 중국 내 잠재적 경쟁자"라고 언급했다.